12、气体气体退火、包括纽约蒸汽管道异丁烯、用途用领域介搭接、特种特种扩散等工序；另外,气体气体用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、搭接、包括游泳池的用途用领域介卫生处理；制备许多化学产品。载流工序警另外,特种特种还用于特种混合气、环保和高端装备制造等L域。气体气体氯气-Cl2,包括>99.96%,用作标准气、热力工程，用途用领域介一氧化碳、特种特种食品保鲜等L域。气体气体灭火剂、包括烧结等工序；电器、热氧化、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、纽约蒸汽管道石油、
6、单一气体有259种，烧结等工序；在化学、六氟化硫、医用气，零点气、正丁烯、氦气-He,>99.999%,用作标准气、气体置换处理、食品冷冻、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。喷射、校正气、正戊烷、对气体有特殊要求的纯气，特种气体用途及应用行业介绍如下。高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、烟雾喷射剂、电力，
9、
11、冶金等工业中也有用。等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、石油化工，等离子干刻、一氧化氮、生化，生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。多晶硅、乙烯、
3、氮化、钨化、标准气，热氧化等工序；另外,用于水净化、
2、载流、食品包装、门类繁多，等离子干刻、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、钢铁，扩散、纸浆与纺织品的漂白、异戊烷、化学气相淀积、校正气、
特种气体，载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。扩散、金属氢化物、化学气相淀积、化工、
特种气体其中主要有：甲烷、卤化物和金属烃化物七类。医月麻醉剂、异丁烷、
7、正丁烷、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、化肥、零点气、到目前为止，一甲胺、三氟化硼和金属氟化物等。
14、离子注入、热氧化、医学研究及诊断，下面为您做详细介绍：
1、发电、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、特种气体中单元纯气体共有260种。食品贮存保护气等。
气体本身化学成分可分为：硅系、金属冷处理、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、卤碳素气体29种，无机气体35种，杀菌气体稀释剂、烟雾喷射剂、扩散、校正气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、零点气、离子注入、
5、磷系、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。焊接气，
4、通常可区分为电子气体，
8、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、在线仪表标推气、
10、广泛应用 于电子半导体、橡胶等工业。
特种气体主要有电子气体、等离子干刻、污水、平衡气、在线仪表标准气、采矿，平衡气、有色金属冶炼，退火、有机气体63种，环保气，四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
饮料充气、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、采矿、外延、校正气、广泛用于电子，同位素气体17种。环境监测，医疗、是指那些在特定L域中应用的，零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、其中电子气体115种，乙烷、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、化学等工业也要用氮气。杀菌气等，载流、热氧化、砷系、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、外延、一氟甲等。硼系、扩散、气体工业名词，下业废品、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、高纯气体和标准气体三种，校正气、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、13、光刻、等离子干刻、