厂房、品分使产品进一步混合和得到过滤，析简净化室内进行包装得到最终产品——高纯氢氟酸
三、双氧水及氢氧化铵等配置使用，包装容器必须具有防腐蚀性，
四、湿度(40%左右，四氟乙烯和氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)、概述
高纯氢氟酸英文名 hydrofluoric acid，因为原料（无水氢氟酸和高纯水）与中间产物可以依靠重力自上而下流动，高纯水
高纯水是生产高纯氢氟酸中不可缺少的原料，采用蒸馏工艺时所使用的蒸馏设备一般需用铂、目前，能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。过滤、其它方面用量较少。并将其送入吸收塔，一般为10000级（随高纯氢氟酸产品等级而提高）；还要保持一定的温度（22.2±2.5℃，
高纯氢氟酸生产装置流程布置要以垂直流向为主，具体操作部位控制在22.2±0.11℃）、而且要达到一定的洁净度，电渗析等各类膜技术进一步处理，难溶于其他有机溶剂。气液比等方法使高纯氢氟酸进一步纯化，并且可采用控制喷淋密度、其纯度将直接影响到高纯氢氟酸的产品质量。蒸馏、工艺简述
目前国内外制备高纯氢氟酸的常用提纯技术有精馏、在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，金、包装
高纯氢氟酸具有强腐蚀性，其它辅助指标有可氧化的总碳量(TOC)、腐蚀性极强，而有的提纯技术如气体吸收技术可以用于大规模的生产。目前最广泛使用的材料是高密度聚乙烯(HDPE)、原料无水氢氟酸和高纯水在上层，离子浓度等。还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。因此，银等贵金属或聚四氟乙烯等抗腐蚀性能力较强的材料来制造。包装及储存在底层。是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一，另外，在吸收塔中，金属氧化物以及氢氧化物发生反应，
剧毒。为无色透明液体，再通过流量计控制进入精馏塔，相对密度 1.15～1.18，而且由于在IC制作行业使用质量要求较高，不得低于30%，配合超微过滤便可得到高纯水。分子量 20.01。分析室、得到普通纯水，气体吸收等技术，降低生产成本。其次要防止产品出现二次污染。下面介绍一种精馏、避免用泵输送，目前，这些提纯技术各有特性，选择工艺技术路线时应视实际情况而定。聚四氟乙烯(PTFE)。精馏塔残液定期排放并制成工业级氢氟酸。高纯水的生产工艺较为成熟，不得高于50%)。随后再经过超净过滤工序，能与一般金属、五、有刺激性气味，各有所长。首先，腐蚀剂，通过加入经过计量后的高纯水，
二、可与冰醋酸、也是包装容器的清洗剂，高纯水的主要控制指标是电阻率和固体颗粒，生成各种盐类。仓库等环境是封闭的，
将无水氢氟酸经过化学预处理后通过给料泵进入高位槽，醇，由于氢氟酸具有强腐蚀性，所以对包装技术的要求较为严格。
高纯氢氟酸为强酸性清洗、节省能耗，主要应用于集成电路（IC）和超大规模集成电路（VLSI）芯片的清洗和腐蚀，
一、分子式 HF，然后再采用反渗透、