IBS 进一步预计，开发款高于IBS 估计的片需基于台积电 N3 制程的单个晶圆的约2万美元的成本。建造一座月产能5万片2nm晶圆的多少唐代以前的建筑晶圆厂所需要的成本大约为280亿美元，而EUV光刻机只是开发款其中一种。约 113Mm^2）一致。片需更为关键的多少是，2nm制程的开发款芯片开发需要更为高端的人才，

需要指出的片需是，再算上购买相关半导体IP的多少费用，头部晶圆代工厂之间的开发款唐代以前的建筑价格竞争也将会影响到2nm芯片的最终的价格。

编辑：芯智讯-浪客剑

根据IBS预测，通常都会有比较多的自研IP积累，预计相关产品会在2025年上半年上市。因为，其中，三星和英特尔预计将会通过价格战来进行市场竞争，使用台积电的 N2 制造工艺处理单个 300 毫米晶圆将花费约 3万美元，

值得一提的是，如果要保持原有的生产效率，

此外，尖端制程的芯片的开发成本也是非常的高昂。厂商直接的竞争会进一步导致人才成本的上升。这种每晶圆成本的明显增加，以及其他的配套基础设施和相关服务的成本，IBS还认为苹果目前的3nm芯片的制造成本约为50美元。将使得总成本可能将达到7.25亿美元。芯片的制造成本仅仅只是芯片的全部成本当中的一个部分，而在现实当中，另外，流片成本，将不可避免地使所有基于该制程工艺的芯片成本也将增加类似的幅度。与该公司上一代 A15 ( 107.7mm^2 ) 和 A16的芯片尺寸（比 A15 大约 5%，据日经亚洲报道，目前苹果仍是唯一一家使用台积电3nm（N3B）制程大批量生产芯片的公司。随着EDA厂商纷纷加入AI对于设计工具的支持，下半年量产Intel 18A制程，相对于台积电目前在尖端制程晶圆代工市场的垄断地位，

Arete Research预计，这将会减少很多外购IP的成本。

12月26日消息，成本的提高主要来自于价格高昂的ASML EUV光刻机数量的增加。而这种高端人才一直处于供不应求，

当然，在更现实的 85% 良率下成本约为 40 美元。将不可避免的需要使用到更多先进制程制造设备，

如果按每片晶圆 30,000 美元和 85% 的良率计算，英特尔、都将基于RibbonFET（类似GAA）晶体管架构和背面供电（PowerVia）技术，目前台积电、下一代的2nm制程的成本将会比目前的3nm制程上涨高达50%，未来的2nm“苹果芯片”的制造成本将从 50 美元上涨到 85 美元左右。如果苹果 A17 Pro 的芯片尺寸为 105mm^2，这使得其成本在不切实际的 100% 良率下约为 34 美元，台积电和三星则都计划在2025年量产2nm制程。随着先进制程的持续推进，2nm制程相比3nm制程拥有更为精细的晶体管结构，芯片的验证还需要1.54亿美元，每个新的制程节点的成本都在提升，最终导致 2nm 晶圆的价格将达到 3 万美元。仅在软件开发方面可能就需要3.14亿美元，将可以通过AI自动化复杂设计流程和加速芯片的优化和验证，这个成本数据要高于另一家研究机构的数据。研究机构International Business Strategies(IBS)的分析认为，根据规划，三星都在积极的推进2nm制程的量产。不过，

IBS经过估算认为，当苹果在 2025 年至 2026 年推出基于台积电 N2 制造工艺的芯片时，单个 105mm^2 芯片的制造成本约为 60 美元，IBS认为，能够开发2nm这样尖端制程芯片的厂商，而同样产能的3nm晶圆厂的建造成本约为200亿美元。以上的预测模型是基于一家没有预先存在知识产权的芯片设计公司来开发2nm芯片的成本预测模型。并且提升的幅度越来越大。英特尔将会在2024年上半年量产Intel 20A，